光刻技术的原理是什么

1、光刻技术的原理：集成电路制造中利用光学、化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。

2、随着半导体技术的发展，光刻技术传递图形的尺寸限度缩小了数量级，已从常规光学技术发展到应用电子束、 X射线、微离子束、激光等新技术；使用波长已从扩展到 数量级范围。